氧化铟锡
特性用途 用途与合成方法 MSDS 氧化铟锡价格(试剂级) 上下游产品信息 专题
中文名称 | 氧化铟锡 |
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中文同义词 | 氧化铟锡, NANOTEK|R, 99.5%;氧化铟锡, 91:9 W/W, 99.997%;氧化铟锡, 99.99% (METALS BASIS);氧化铟锡, VACUUM DEPOSITION GRADE, 99.99% (METALS BASIS);氧化铟锡(ITO);氧化铟锡(铟锡氧化物);氧化铟锡 100G;氧化铟锡溅射靶, 50.8MM (2.0IN) 直径 X 6.35MM (0.25IN) 厚, 99.99% (METALS BASIS) |
英文名称 | INDIUM TIN OXIDE |
英文同义词 | ITO;INDIUM TIN OXIDE;indium tin oxide, 3mm-12mm pieces, 91:9 w/w;indium tin oxide, dispersion;indium tin oxide, vacuum deposition grade;ito coated slide;Indium stannic oxide;Indium tin oxide, 99.5% min (metals basis) |
CAS号 | 50926-11-9 |
分子式 | In2O5Sn |
分子量 | 428.34 |
EINECS号 | |
相关类别 | 催化和无机化学;通用试剂;铟;常规氧化物粉体-纳米ITO;氧化物-ITO;氧化物 |
Mol文件 | 50926-11-9.mol |
结构式 |
氧化铟锡 性质
熔点 | 287℃ |
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沸点 | 82 °C |
密度 | 1.2 g/mL at 25 °C(lit.) |
折射率 | n1.5290-1.5460(lit.) |
闪点 | 57.2 °F |
储存条件 | -20°C |
形态 | 纳米粉体 |
颜色 | 黄绿色 |
水溶解性 | Insoluble in water. |
暴露限值 | ACGIH: TWA 0.1 mg/m3 NIOSH: TWA 0.1 mg/m3 |
CAS 数据库 | 50926-11-9(CAS DataBase Reference) |
(IARC)致癌物分类 | 2B (Vol. 118) 2018 |
EPA化学物质信息 | Indium tin oxide (50926-11-9) |
氧化铟锡 用途与合成方法
特性
氧化铟锡主要的特性是其电学传导和光学透明的组合。然而,薄膜沉积中需要作出妥协,因为高浓度电荷载流子将会增加材料的电导率,但会降低它的透明度。
用途
氧化铟锡主要用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸等应用、有机发光二极管、以及太阳能电池、和抗静电镀膜还有EMI屏蔽的透明传导镀膜。
安全信息
危险品标志 | |
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毒害物质数据 | 50926-11-9(Hazardous Substances Data) |
MSDS信息
提供商 | 语言 |
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SigmaAldrich | 英文 |
ALFA | 中文 |
ALFA | 英文 |
氧化铟锡 价格(试剂级)
更新日期 | 产品编号 | 产品名称 | CAS号 | 包装 | 价格 |
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2024/08/19 | 044927 | 氧化铟锡 Indium tin oxideNanoTek|r99.5% | 50926-11-9 | 25g | 2476元 |
2024/08/19 | 042677 | 锡酸铟, 真空沉积级, 99.99% (metals basis) Indium tin oxide, Vacuum Deposition Grade, 99.99% (metals basis), Thermo Scientific Chemicals | 50926-11-9 | 5g | 609元 |
氧化铟锡 上下游产品信息
下游产品
聚吡咯-聚氯乙烯复合膜