中文名称: 氧化铟锡
中文别名: 氧化铟锡, NANOTEK|R, 99.5%;氧化铟锡, 91:9 W/W, 99.997%;氧化铟锡, 99.99% (METALS BASIS);氧化铟锡, VACUUM DEPOSITION GRADE, 99.99% (METALS BASIS);氧化铟锡(ITO);氧化铟锡(铟锡氧化物);氧化铟锡 100G;氧化铟锡溅射靶, 50.8MM (2.0IN) 直径 X 6.35MM (0.25IN) 厚, 99.99% (METALS BASIS)
英文名称: Indium tin oxide
英文别名: ITO;INDIUM TIN OXIDE;indium tin oxide, 3mm-12mm pieces, 91:9 w/w;indium tin oxide, dispersion;indium tin oxide, vacuum deposition grade;ito coated slide;Indium stannic oxide;Indium tin oxide, 99.5% min (metals basis)
CAS号: 50926-11-9
EINECS号: -
分子式: In2O5Sn
分子量: 428.34
InChI: InChI=1/2In.5O.Sn/q2*+3;5*-2;+4
分子结构:
密度: 1.2 g/mL at 25 °C(lit.)
熔点: -287℃
沸点: 82 °C
闪点: 57.2 °F
折射率:
n
蒸汽压: -
物化性质: -
产品用途: 氧化铟锡主要用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸等应用、有机发光二极管、以及太阳能电池、和抗静电镀膜还有EMI屏蔽的透明传导镀膜。
危险品标志: -
风险术语: -
安全术语: -