中文名称: 四甲基氢氧化铵
中文别名: 四甲基氢氧化铵, 25% W/W AQ. SOLN.;氫氧化四甲銨;四甲基氢氧化铵;四甲基氢氧化铵(约25%的水溶液);四甲基氢氧化铵(10%的甲醇溶液);四甲基氢氧化铵(10%的水溶液);四甲基氢氧化铵(10%的甲醇溶液)[用于光刻胶研究];氢氧化四甲基胺, 2.38% W/W AQ. SOLN., ELECTRONIC GRADE, 99.
英文名称: 四甲基氢氧化铵
英文别名: N,N,N-TRIMETHYLMETHANAMINIUM HYDROXIDE;TETRAMETHYLAMMONIUM HYDROXIDE;TMAH;Tetramethylammoniumhydroxide,25%soln.inmethanol;Tetramethylammoniumhydroxide,25%w/wAqueousSolution,99.5%(metalsbasis);TETRAMETHYLAMMONIUM HYDROXIDEOL;Tetramethylammonium hydroxide, 10% in water;Tetramethylammonium hydroxide, 25 wt% in methanol
CAS号: 75-59-2
EINECS号: 200-882-9
分子式: C4H13NO
分子量: 91.15
InChI: -
分子结构:
密度: 0.866 g/mL at 25 °C
熔点: -°C
沸点: 110 °C
闪点: 80 °F
折射率:
n
蒸汽压: 17.5 mm Hg ( 20 °C)
物化性质: -
产品用途: 1.在有机硅方面,四甲基氢氧化铵作为二甲基硅油,氨基硅油,苯甲基硅油,有机硅扩散泵油,无溶剂有硅模塑料,有机硅树脂,硅橡胶等的催化剂; 2.在分析方面,四甲基氢氧化铵作为极谱试剂; 3.在产品提纯方面作为无灰碱用以沉淀许多金属元素; 4.在有机硅片生产中常用作计算机硅片面用光亮剂、清洗剂和触刻剂等。 5.在电路板的印刷和显微镜片的制造中,可作为集成电路板的清洗剂和半导体微加工技术中si-sio2界面的各向异性腐蚀剂。 6.用作CMP过程清洗剂,IC.vlsi及TFI-LCD正胶显影剂。###氨基硅油、201甲基硅油、硅橡胶等有机硅类产品聚合中的催化剂。当水溶液使用时,可用作合成RT培司催化剂,亦可用于聚酯类聚合物、纺织、皮革、木材加工、电子、电镀等行业,也是极谱实验支持液###用作计算机硅片面的光亮剂、触刻剂等
危险品标志:
风险术语: -
安全术语: 如果发生事故或感到不适,请就医立即提出建议(如有可能,展示标签)、穿戴合适的防护服、戴上合适的手套、佩戴眼部/面部防护用品、如果接触眼睛,请立即用大量清水冲洗喝水并寻求医疗建议、远离火源-禁止吸烟、接触皮肤后,立即用大量…(由制造商规定)