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当一束光入射到薄膜表面时，薄膜上表面和下表面的反射光会发生干涉，干涉的发生与薄膜厚度及光学常数等有关，反射光谱薄膜测厚仪就是基于此原理来测量薄膜厚度。
反射光谱干涉法是一种非接触式、无损的、快速的光学薄膜厚度测量技术。
测量范围:1nm-1mm
波长范围:200nm-8000nm
光斑尺寸:2mum-3um
a.高的测量精度：0.01nm或0.01
b.准确度：1nm或0.2
c.稳定性：0.02nm或0.02
d.强大的软件材料库，包含500多种材料的光学常数
e.通过ModbusTCP或OPC协议，与其他设备联用
适用于实时在线测量，多层测量，非均匀涂层,软件包含大量材料库(超过500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy,Tauc-Lorentz,Cody-Lorentz,EMA等
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如：氧化物，氮化物，光刻胶，高分子聚合物，半导体(硅，单晶硅，多晶硅)，半导体化合物(AlGaAs,InGaAs，CdTe,CIGS)，硬涂层(碳化硅，类金刚石炭)，聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
1.主机(光谱仪，光源，电线)
2.反射光纤
3.样品台及光纤适配器
4.TFCompanion软件
5.校准套装
6.测试样品，200nm晶圆
多种型号可选，每个型号对应不同的测量范围：
测量n和k值，其厚度范围需在25纳米和5微米之间
半导体晶圆，薄膜太阳能电池，液晶平板，触摸屛，光学镀膜，聚合物薄膜等
半导体制造：·光刻胶 ·氧化物 ·氮化物
光学镀膜：·硬涂层 ·抗反射涂层 ·滤波片
生物医学：·聚对二甲苯 ·生物膜厚度 ·硝化纤维
粤公网安备44196802000105号
400-6226-992