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更新 2024-07-13 17:38
 
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基本参数

品牌:

布鲁克

所在地:

广东 东莞市

起订:

≥1 PCS

供货总量:

未填

有效期至:

长期有效
详细说明

TriboLabCMP利用其前身产品(BrukerCP-4)超过20年的CMP领域专业知识,为业界领先的TriboLab平台带来了一套完整的功能。基于本套设备产生的高精度和高可重复性使得在整个CMP流程中能够进行高效的鉴别、检查和连续功能测试。TriboLabCMP是市场上唯一能够提供广泛的抛光压力(0.05-50psi)、速度(1至500rpm)、摩擦、声发射和表面温度测量的工艺开发工具,可准确、完整地描述CMP工艺和耗材。


用于CMP的小型研发规模专业系统布鲁克的TriboLabCMP工艺和材料表征系统是专为晶圆抛光工艺而设计,是具有可靠、灵活和高效的台式设备。

  • 重现全尺寸晶圆抛光工艺条件,无需在生产设备上停机

  • 提供无与伦比的测量可重复性和细节检测

  • 允许在小样品上进行测试,比全晶圆测试节省大量成本

板载诊断系统可以更好地了解抛光过程

  • 比市场上任何其他系统提供更多的瞬态抛光过程的参数

  • 从接触抛光盘开始直至整个测试过程都能收集数据

  • 通过更完整、更详细的数据实现早期流程开发决策


具有灵活的样品类型、尺寸和安装配置
  • 抛光任何平面材料,几乎能使用任何修正盘,任何抛光液,和任何抛光垫

  • 轻松使用100mm以下的小尺寸晶圆

  • 可同时安装多个样品,测试更灵活



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