Phenom高分辨率专业版 Phenom Pro飞纳台式扫描电子显微镜 Pro 利用观察氢氧化钾蚀刻制备的硅微观结构

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氢氧化钾蚀刻 （KOH）是制造微型器件的一个重要工艺，用于从硅片上去除材料。选择性地蚀刻硅片的某些部分，用一层二氧化硅或掩膜来保护剩下的部分。然而，残留物的存在成为这种技术的一个缺点，因为它会对器件的制造过程产生负面影响。在这篇博客中，我们提出了一种利用蚀刻残留物的方法，将其作为后续蚀刻的掩膜，以制造两层微结构。我们还提供了如何有效地利用扫描电镜SEM对这些微结构进行成像的例子。

飞纳高分辨率专业版 Phenom Pro 是飞纳电镜系列中最先进的产品，第六代 Phenom Pro 放大倍数提升为 350,000 倍，分辨率优于 6 nm，30 秒快速得到表面细节丰富的高质量图像，是目前世界上分辨率最高的台式扫描电镜，可用于测量亚微米或纳米尺度的样品；飞纳高分辨率专业版 Phenom Pro 继承了飞纳电镜系列高分辨率、15 秒快速抽真空、不喷金观看绝缘体、全自动操作、2-3 年更换灯丝及防震设计等优点。

飞纳高分辨率专业版 Phenom Pro 可选配丰富的拓展功能选件，如 3D 粗糙度重建（3D Roughness Reconstruction）、纤维统计分析测量系统（FiberMetric）、孔径统计分析测量系统（PoreMetric）、颗粒统计分析测量系统（ParticleMetric）、超大视野拼图（Auto Image Mapping）、远程操作等。软件可以自动采集数据、处理图片。比如，纤维统计测量系统可以自动识别、测量纤维样品，而大视野拼图 则自动采集生成高分辨、大视野的样品全景照片，等等…

除此之外，还有各种各样的样品杯可供选择，这些样品杯使得样品的装载更加便利。无论是对于长轴状样品，还是生物材料，或者其它种类的材料，总有一款合适的样品杯可以提供完美的解决方案。

Phenom Pro 主要技术参数

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注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途