法国Photline 400-2300nm超宽带可调谐激光器信息二维码

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400-2300nm

产品特点

TLS系列超宽带可调谐激光器是基于加拿大Photon etc公司的可调谐滤波器技术及超连续谱光源技术研发而成的。调谐范围从可见光到近红外,激光线宽zui小可达0.3nm。在整个调谐范围内可实现极高的准确性(precise up to 0.05 nm)及准确度(accurate up to 0.1 nm)。

详细介绍

TLS系列超宽带可调谐激光器是基于加拿大Photon etc公司的可调谐滤波器技术及超连续谱光源技术研发而成的。调谐范围从可见光到近红外,激光线宽最小可达0.3nm。在整个调谐范围内可实现极高的准确性(precise up to 0.05 nm)及准确度(accurate up to 0.1 nm)。


Photon etc 的光学线性可调滤波器(LLTF)是一种基于体积全息光栅的非色散可调带通滤波器。它提供了行业中最高的信号吞吐量,而且结合了非常高的光密度(> OD6)和出色的带外YZ以及广泛的波段可调性。针对这点,Photon将Fianium、NKT Photonics和LEUKOS的超连续介质技术的灵活性与其本身的滤波器无可比拟的带外YZ特性相结合,推出了由超连续谱白光光源与LLTF搭建的TLS系列超宽带可调谐激光器,允许应用于简单而精确的样品激励或仪器校准。图示为Photon的TLS输出光谱图。



Output from Photon etc’s tunable laser source. Visible option covering 400 - 1000 nm and SWIR option covering 1000 - 2500 nm.


产品特点:

  • 带外YZ高

  • 指向与功率稳定性

  • 宽调谐范围

  • 自由空间或光纤耦合

  • 微微秒或纳秒源

  • 输入功率可达20W

  • 可供选择的配件


参数规格:


CONTRAST VISCONTRAST SWIRCONTRAST X

SPECTRAL RANGE
(extended and reduced spectral ranges also available**) 

400 - 1000 nm1000 - 2300 nm
(2500 nm optional*)
where X represents
a custom spectral range
BANDWIDTH (FWHM)*** 1.0 nm - 2.5 nm2.0 nm - 5 nmHigh resolution: 
0.15 nm - 0.9 nm
OUT OF BAND REJECTION****< -60 dB @ ± 40 nm< -60 dB @ ± 80 nm
(measured up to 1.7 µm)
depends on the bandwidth
MAXIMUM INPUT AVERAGE POWER 
HP4: UP TO 4W 
HP8: UP TO 8W 
HP20: UP TO 20W
HP8, HP20HP8, HP20HP4
PEAK EFFICIENCY typically around 65%
OPTICAL DENSITY (OD) > OD6 (measured at 1064 nm)TBD

SPECTRAL POWER DENSITY 

Coupled with 4W supercontinuum source:
< 1 - 3 mW

Coupled with 8W 
supercontinuum source:

< 2 - 5 mW

Coupled with 4W supercontinuum source:
< 2 - 5 mW

Coupled with 8W 
supercontinuum source:
< 5 - 9 mW

depends on the bandwidth
DAMAGE THRESHOLD < 5 GW/cm2 peak power @ 1064 nm, 8 ns
BEAM DIAMETER 2 to 5 mm (depending on λ)
INPUT BEAM DIVERGENCE REQUIREMENT < 0.45 mrad
WAVELENGTH RELATIVE ACCURACY FWHM / 8
POINTING STABILITY < 1mm lateral displacement @ 1 m from filter
SCANNING SPEED 
(MULTIPLE STEP) 

35 ms stabilization time for 0.1 nm step,

45 ms stabilization time for 0.2 nm step,

55 ms stabilization time for 1 nm step,

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